126页光刻机行业深度报告：技术、竞争格局与发展趋势『附报告下载』 - 热点洞察

今天，为大家分享的报告是《光刻机行业深度报告：博采众星之光，点亮皇冠明珠》，报告共126页，更多重要内容、核心观点，请参考报告原文。

报告核心内容解读

本报告全面剖析了集成电路制造过程中光刻工艺的重要性、光刻机的复杂性和其在半导体产业中的地位，以及ASML公司的崛起和国内光刻机产业链的发展情况。

1. 光刻工艺的关键性

在集成电路制造过程中，光刻工艺是决定芯片晶体管尺寸大小的关键环节，对芯片性能和功耗有着直接的影响。作为光刻技术的核心设备，光刻机单台价值量高达上亿美元，位列芯片制造前道工艺七大设备之首。

2. 光刻机的复杂性及地位

光刻机是多学科交织的复杂工程，集成了精密光学、精密运动学、高精度微环境控制、算法、微电子、高精度测控等多学科全球最顶尖工程师和科学家的智慧。此外，光刻机作为一整套纳米工业体系，需要其背后的光源系统、光学镜头系统、精密运动和环境控制系统、测量系统、聚焦系统、对准系统等模块全部达到纳米级精度，并高度集成和协同。

3. ASML公司的崛起及供应链整合

自上世纪80年代起，ASML通过双工件台、浸没式技术和EUV的重大技术突破，将光刻工艺推向新的高度。ASML在全球中高端光刻设备市场中独占95%的份额，其崛起离不开高强度投入和供应链整合。一方面，ASML重视技术更新迭代，并投入大量资金转化为技术优势。另一方面，ASML利用已有的制造业产业链打造自己的生态体系。

4. 半导体行业景气周期与自主可控推动

据SIA数据显示，全球半导体销售额已实现连续七个月的环比增长，景气回升或已接近破晓时分。同时，AI芯片、高性能计算、汽车等领域的强劲需求持续推动半导体资本开支的增长。SEMI指出，自2024年起全球前端的300mm晶圆厂设备支出将恢复增长。鉴于光刻机产业链的技术壁垒和不可或缺的地位，在海外对华先进技术严密管控的当下，该领域的自主可控具有十分紧迫的战略价值。

5. 国内光刻机产业链的发展

虽然起步较晚且基础薄弱，但国内光刻机产业链从业者正在积极追赶，并在相关零部件、光学部件、激光器件、双工件台、掩膜版等领域取得一定进展。随着国内半导体产业链上下游协同攻关、产业政策积极引导以及多方资本有力加持，国产光刻机及相关供应链有望顺利发展，为科技信息产业发展提供保障。